德国Hellma CaF₂氟化钙光学晶体 130nm-9μm宽透光半导体光刻高功率激光窗口用-生物仪器-产品-北京汉达森工业备件采购平台

品牌Hellma	有效期至长期有效	最后更新2026-08-20 13:08
产品类型高纯氟化钙（CaF₂）光学单晶	折射率（nd）1.43384	激光耐久性可承受超 10⁹ 次激光脉冲冲击
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德国Hellma CaF₂氟化钙光学晶体 130nm-9μm宽透光半导体光刻高功率激光窗口用

德国Hellma CaF₂氟化钙光学晶体详细介绍及选型指南

Hellma Materials CaF₂ 氟化钙光学晶体是德国 Hellma Materials GmbH 自主生长的高纯单晶材料。Hellma 成立于1922年，是全球知名的光学元件和晶体材料制造商，在光学晶体生长和精密加工领域积累了超过百年的技术经验。

Hellma CaF₂ 单晶具有从深紫外（130 nm）至中红外（9 μm）的超宽光谱透射性能。该材料透光波段覆盖真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、紫外、可见光、近红外至中红外全波段，在 193 nm 深紫外波段无吸收。折射率 nd=1.43384，色散系数 vd=95.23，双折射指标 ≤5×10⁻⁷，折射率均匀性 <5 ppm。材料密度 3.18 g/cm³，热膨胀系数 1.1×10⁻⁵/℃（-20°C至+60°C）。

Hellma Materials 拥有从晶体生长、退火、切割、研磨到精密抛光的完整制造链。CaF₂ 晶体毛坯直径可达 440 mm，厚度超 100 mm。该材料被确立为半导体光刻准分子激光光学器件的行业标准材料，广泛应用于半导体光刻设备、高功率激光系统、紫外光学、红外窗口及真空光学设备等领域。

核心参数表.

参数项	规格/数值
品牌	Hellma Materials（德国豪玛）
材料类型	高纯氟化钙（CaF₂）光学单晶
透光波段	130 nm – 9 μm
深紫外透过率（193nm）	内部 >99.6%/cm
紫外透过率（200-400nm）	可达 90% 以上
可见光透过率（400-700nm）	约 92-94%
红外透过率（1-6μm）	超过 90%
折射率（nd）	1.43384
色散系数（vd）	95.23
双折射指标	≤5×10⁻⁷
折射率均匀性	<5 ppm
材料密度	3.18 g/cm³
热膨胀系数	1.1×10⁻⁵/℃（-20°C至+60°C）
晶体结构	立方晶系
最大加工尺寸	直径 ≤440 mm，厚度 ≤100 mm
表面粗糙度	可达 Ra ≤1 nm
平行度误差	≤30 arcsec
激光耐久性	可承受超 10⁹ 次激光脉冲冲击

德国Hellma CaF₂氟化钙光学晶体功能特点

1. 130 nm – 9 μm 超宽光谱透射，覆盖 VUV 至中红外全波段

Hellma CaF₂ 单晶的透光范围覆盖 130 nm 至 9 μm，从真空紫外、深紫外、紫外、可见光、近红外至中红外全波段均可实现有效透射。在深紫外区（130-200 nm），原生晶体杂质极低，仍保持可用透过率；在紫外区（200-400 nm）透过率可达 90% 以上；可见光区（400-700 nm）透过率约 92-94%；红外区（1-6 μm）透过率超过 90%。相比石英材料（透光上限约 2,500 nm），CaF₂ 在中红外区域具有明显的透过优势。

2. 低色散与低双折射，保障高精度光学成像质量

Hellma CaF₂ 的色散系数 vd=95.23，属于低色散光学材料。在光刻物镜、激光聚焦系统等对色差控制有严格要求的应用中，低色散特性可有效减少不同波长光线的分离，保障成像清晰度。双折射指标 ≤5×10⁻⁷，200 nm 以上无明显本征双折射。折射率均匀性 <5 ppm，材料内部光学一致性良好。

3. 高激光耐久性，适配高功率激光与光刻应用

Hellma CaF₂ 晶体可承受超 10⁹ 次激光脉冲冲击，长期高频辐照不产生色心、不透光衰减。在 193 nm 深紫外波段无吸收，在准分子激光、高功率激光等应用中具有良好的耐久性。这一特性使其成为半导体光刻机照明系统、投影物镜、激光输出窗口等关键光学元件的材料选择。

4. 大尺寸晶体生长能力，适配大口径光学系统

Hellma Materials 拥有大尺寸 CaF₂ 单晶生长能力，晶体毛坯直径可达 440 mm，厚度超 100 mm。在大口径光刻物镜、高功率激光窗口等需要大尺寸光学元件的应用中，大尺寸晶体生长能力可减少拼接带来的光学损失和系统复杂度。

5. 低折射率与低折射率温漂，提升系统热稳定性

Hellma CaF₂ 的折射率 nd=1.43384，属低折射率光学材料。折射率温度系数较低，在温度变化环境中折射率变化幅度较小。光刻设备工作温度控制严格，低折射率温漂有助于保障光学系统在温度波动条件下的成像一致性。

6. 完整制造链与高精度加工能力

Hellma Materials 拥有从晶体生长、退火、切割、研磨到精密抛光的完整制造链。晶体表面粗糙度可达 Ra ≤1 nm，平行度误差 ≤30 arcsec。适用于半导体光刻、高功率激光、红外窗口等对光学精度有较高要求的应用场景。

适用场景

Hellma CaF₂ 光学晶体广泛应用于高端光学和光电子领域，主要涵盖以下场景：

半导体光刻设备：用于 193nm 深紫外光刻机的照明系统匀光组件、投影物镜镜片、激光输出窗口，适配 28nm、14nm、7nm 及以下制程
高功率激光系统：用于准分子激光器、固体激光器的激光窗口和光学元件，高激光耐久性适配长期高频辐照环境
紫外光学：用于深紫外光谱仪、紫外显微镜等真空紫外光学系统的透镜和窗口
红外窗口与红外光学：用于中红外光谱分析、热成像系统的窗口和透镜
真空光学设备：用于真空腔体的光学窗口，适配真空紫外至红外波段的透射需求
航空航天与国防：用于星载光学系统、红外制导系统的光学元件

配套耗材

Hellma CaF₂ 光学晶体为定制化产品，出厂配置依据具体订单确定。用户可根据具体应用需求选配以下服务：

名称	说明	用途
晶体生长定制	按需定制晶体尺寸和掺杂	适配不同口径光学系统需求
精密加工	切割、研磨、抛光	按图纸加工至最终光学元件尺寸
镀膜服务	增透膜、反射膜等	提升特定波段透过率或反射率
光学检测报告	透光率、折射率、平行度等检测	质量验证和溯源
晶体取向定制	按指定晶向生长	适配特定光学设计要求