Levitronix BPS‑iF30半导体液体流量控制器 PTFE无轴承闭环药液流量控制单元

BPS‑iF30 微电子流量控制器

BPS‑iF30为Levitronix莱维创思一体化超纯液体闭环流量控制单元，将磁悬浮无轴承泵、LEVIFLOW超声流量传感器、驱动控制模块集成于同一机身，无需外接独立控制器，自带闭环算法，可实现液体流量精准稳定控制，适配半导体湿法工艺，分为标准版、高压HP版、AS防静电版本、ATEX防爆版本，无需阀门节流，实现无脉动高纯药液输送与流量闭环调控。

核心技术参数

产品功能特点

整机一体化集成设计，磁悬浮泵与超声流量传感器、控制电路整合为一体，省去外部流量转换器，减少设备布线与安装空间，便于OEM嵌入半导体湿法设备内部。叶轮磁悬浮无机械接触、无轴承、无动密封，不会产生磨损颗粒，降低药液金属离子与颗粒污染风险，适配晶圆制造高洁净要求。

内置闭环流量控制算法，直接接收外部设定流量信号，自动调节泵转速维持目标流量，不需要外接第三方控制器；不依靠节流阀调节流量，全程无压力脉动输出，减少管路冲击，适配敏感化学品、CMP浆料输送。内置超声流量传感单元，具备气泡识别、零点校准、故障报警输出，实时反馈工艺状态。

湿端全部采用高纯氟塑料，耐受各类强酸强碱、有机溶剂；支持AS防静电版本、ATEX防爆版本，适配静电敏感、易燃易爆溶剂工况；丰富的电气接口，Modbus总线、模拟量信号对接工厂PLC，支持流量设定、状态读取、故障上报，便于产线数据采集与预防性维护。

多版本覆盖不同流量压力工况，无易损耗轴承与动密封件，减少备件更换频次，降低产线维护工作量。

主要应用领域

多用于半导体晶圆清洗、湿法刻蚀、显影工艺、CMP化学机械抛光、先进封装；也适配光伏、平板显示行业，用于高纯化学品、研磨浆料、腐蚀性药液的闭环定量输送，适合设备OEM集成与成熟产线改造升级。

配套选购提示

结合工艺流量压力选择标准版、高压HP版；静电敏感介质选择AS防静电版本；易燃易爆溶剂选用ATEX防爆版本；介质温度、粘度不可超出设备规格；安装需要保证传感器前后直管段，保障闭环控制精度；可使用厂家配套调试软件完成参数配置；泵头与传感流道为介质接触部件，结合工况定期检查维护。