Levitronix BPS‑200超纯泵 晶圆产线PTFE高纯CMP浆料输送泵

BPS‑200 中型微电子超纯泵

BPS‑200为Levitronix莱维创思中型磁悬浮无轴承离心泵，采用主动磁悬浮技术，叶轮无机械轴承、无动密封，无物理接触运转，面向成熟晶圆产线湿法工艺，可输送高纯化学品、CMP研磨浆料，适配中等流量工况；系统由泵头、电机单元、外置控制器LPC‑200组成，支持防静电AS版本、ATEX防爆版本可选。

核心技术参数

产品功能特点

主动磁悬浮悬浮驱动，叶轮全程悬浮运转，不存在机械摩擦副，避免轴承磨损产生颗粒碎屑，降低高纯流体输送的颗粒污染与金属离子析出；无动密封结构，规避密封老化失效带来的介质泄漏风险，适配半导体产线严苛洁净要求。

泵壳、叶轮采用高纯氟塑料材质，耐各类强酸强碱、有机溶剂；AS防静电版本可满足静电敏感介质工况；ATEX防爆版本适配易燃易爆溶剂输送场景。宽大流道间隙，无狭小滞留死角，降低浆料颗粒堆积风险，低剪切设计，可减少CMP研磨浆料颗粒团聚现象。

外置控制器LPC‑200实现转速电子无级调节，流体输出无脉动，流量压力调节范围宽；完备电气接口，可接入工厂PLC系统，搭配流量、压力传感器实现闭环工艺控制；可读取泵运行状态数据，便于设备状态监控与预防性维护。

无易损耗轴承与动密封件，减少备件更换频次，降低产线维护工作量；多版本可选，覆盖普通、防静电、防爆多种工况，适配晶圆量产设备集成使用。

主要应用领域

多用于半导体湿法处理、晶圆清洗、CMP浆料循环输送、先进封装、电镀工艺；也适配光伏电池制备、平板显示、MEMS器件制造等场景，用于中等流量高纯化学品、研磨浆料、腐蚀性介质的输送循环，面向成熟量产产线设备配套。

配套选购提示

需要结合工艺流量压力参数选择标准、防静电AS或者ATEX防爆版本；闭环控制需要额外配置流量或者压力传感器；介质温度、粘度不可超出设备规格；可按需选购不同长度FEP延长线缆；泵头为介质接触部件，建议结合工况定期检查；整套系统包含泵头、电机、控制器，不可随意拆分混用不同系列组件。