客服热线：18511748972
手机版
二维码
| 品牌Hellma | 有效期至长期有效 | 最后更新2026-08-10 15:01 |
| 浏览次数0 |
Hellma 氟化钙（CaF₂）单晶材料用于半导体
在半导体微光刻与精密检测设备中，光学基材的性能会直接影响光路稳定性与成像效果。Hellma 氟化钙（CaF₂）单晶材料依托成熟的晶体生长与精密加工工艺，应用于半导体深紫外光学系统，为芯片制造相关设备提供光学解决方案。
氟化钙具备宽阔的光谱透射区间，可覆盖深紫外至中红外波段，在 193nm、248nm 准分子激光波段拥有透过表现。材料色散水平较低，有助于减少系统色差；同时拥有不错的抗激光辐照能力，适合长期承受高频脉冲激光持续作用，适配洁净真空工况。
在半导体行业，该材料常用于深紫外光刻设备照明光路、投影光学元件、ArF/KrF 准分子激光器输出窗口，也可搭载在晶圆缺陷检测、掩膜版检查设备当中，保障光束传输稳定，辅助实现高精度图案曝光与微观缺陷识别。产品可提供多种晶向规格，支持毛坯基材、抛光窗口、镜片等多种形态定制，匹配不同设备光路设计需求。
