INFICON英福康 XTC/3 石英晶体膜厚速率控制仪

INFICON英福康 XTC/3 石英晶体膜厚速率控制仪 真空镀膜膜厚沉积速率控制器 支持多层膜工艺

INFICON（英福康，瑞士）XTC/3石英晶体膜厚速率控制仪，分为XTC/3S单层版本与XTC/3M多层膜版本，基于石英晶体振荡原理，实现真空镀膜过程沉积速率与薄膜厚度的监测与闭环控制，支持复杂多层膜工艺编辑运行，适配光学镀膜、装饰镀膜、半导体镀膜等PVD物理气相沉积产线与实验设备，保障薄膜工艺重复性与工艺稳定性。

产品概述

XTC/3薄膜沉积控制器采用ModeLock频率测量技术，降低模式跳变带来的膜厚测量偏差，主机内置TFT‑LCD图形显示屏，支持本地独立运行，也可对接上位机软件完成配方管理、数据记录。设备配备两路传感器输入，支持CrystalSix、Crystal12石英晶体传感器，具备晶体自动切换功能，延长连续生产运行时长；XTC/3M多层版本可存储大量工艺配方，实现多材料交替多层膜自动沉积；具备两路蒸发源输出，继电器事件输出，可对接镀膜机电源、挡板等外部设备，适配量产设备与科研镀膜设备集成使用，可兼容替换前代XTC/2控制器，降低设备改造工作量。

主要技术参数

产品功能特点

1、ModeLock专利测量技术，抑制石英晶体模式跳变，减少膜厚测量异常，保障镀膜工艺一致性。

2、分为XTC/3S单层、XTC/3M多层两个版本，多层版本支持999层膜层编辑，满足干涉膜、滤光片等复杂多层膜工艺需求。

3、双传感器输入，支持CrystalSix、Crystal12探头，具备晶体耗尽自动切换，减少生产停机更换晶体频次。

4、本地TFT彩色图形显示，可独立运行无需上位机；支持自定义命名工艺与材料配方，方便生产调用管理。

5、两路蒸发源输出，搭配事件继电器输出，可联动挡板、电源等外部设备，完成自动化沉积流程。

6、通讯配置灵活，标配RS232，可选以太网TCP/IP，支持上位机软件，实现配方下载、过程数据记录、远程控制。

7、向下兼容XTC/2控制器指令协议，老设备改造可直接替换，降低设备升级改造成本。

8、19英寸标准机架式结构，方便镀膜机柜集成安装，适配量产产线与实验室设备不同工况。

典型应用领域

光学滤光片、增透膜、高反膜光学镀膜工艺；五金、塑胶件装饰真空镀膜；半导体器件、晶圆薄膜沉积工艺；PVD蒸发、电子束蒸发生产设备；科研真空镀膜实验系统；各类物理气相沉积设备膜厚闭环控制场景。

订货与选配说明

订货需要确认型号XTC/3S单层版本或XTC/3M多层膜版本；可选以太网通讯模块、上位机操作软件、CrystalSix/Crystal12石英晶体传感器、连接线缆等配件。选型阶段结合膜层数量、蒸发源数量、设备通讯方案确认订货配置。

补充说明

本产品信息整理自INFICON英福康官方公开样本手册，设备实际性能、接口规格以原厂出厂设备、产品说明书为准；石英晶体探头存在使用寿命，实际工艺中需要定期更换晶体，保障测量精度。