Hellma CaF₂ 193nm 单晶氟化钙——深紫外光刻级光学材料-原料-产品-北京汉达森工业备件采购平台

品牌Hellma	有效期至长期有效	最后更新2026-10-08 13:54
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Hellma CaF₂ 193nm 单晶氟化钙——深紫外光刻级光学材料

公司简介

德国Hellma专注高纯度合成氟化钙单晶的研发与制造，是半导体光刻光学领域的材料供应商。

产品简介

Hellma CaF₂ 193nm为深紫外光刻级单晶氟化钙，透光波段覆盖130nm至8µm。193nm处内部透过率＞99.6%/cm，折射率1.43384，阿贝数95.23。提供LD-A至LD-D四个激光耐久等级，可定制至440mm直径。

详细介绍

Hellma CaF₂单晶采用高纯度原料在受控条件下生长，杂质含量控制在ppb级别，有效减少深紫外波段的吸收与散射损耗。在193nm ArF准分子激光工况下，材料具备优异的抗激光损伤能力，LD-A等级激光损伤阈值可达10J/cm²以上，可承受高重复频率激光的长期辐照，不易产生色心缺陷或性能衰减。

材料采用＜111＞晶向优化，应力双折射可控制在0.5nm/cm以内，折射率均匀性达0.5ppm，保障光刻物镜的波前精度。热导率9.71W/(m·K)，约为熔融石英的7倍，高功率激光照射下热畸变小，有利于维持光学系统的长期稳定运行。在环境适应性方面，材料在-50℃至+200℃范围内透过率波动较小，抗电离辐射性能良好，20℃水溶解度仅0.016g/L，潮湿环境下不易潮解。产品可加工为窗口片、透镜、棱镜等多种形态，支持毛坯基材或抛光成品交付。

德国Hellma CaF2 193nm型单晶氟化钙

技术参数

参数	规格
材料类型	合成单晶氟化钙（CaF₂）
适配波长	193nm（深紫外）
透光波段	130nm - 8µm
193nm内部透过率	＞99.6%/cm
折射率（193nm）	≈1.434
阿贝数 νd	95.23
折射率均匀性	≤0.5 ppm（LD-A等级）
应力双折射	≤0.5 nm/cm（＜111＞晶向）
激光损伤阈值	＞10 J/cm²（193nm，10ns脉冲）
热导率	9.71 W/(m·K)
最大可供应尺寸	直径440mm
激光耐久等级	LD-A / LD-B / LD-C / LD-D