Liquid‑Cooled水冷型准分子激光器 193nm 248nm连续加工激光光源

德国MLase LC水冷型准分子激光器 Liquid‑Cooled水冷系列

MLase LC即Liquid‑Cooled水冷配置准分子激光器，是MLase工业准分子激光产品的冷却分支型号，对应MLI‑500‑LC等机型，专为长时间连续工业运行工况设计，区别于AC风冷机型，依托水冷散热体系，保障激光器高重复频率下稳定输出紫外激光，多用于工业批量微加工、不间断科研实验等场景。

LC水冷配置核心说明

LC为Liquid‑Cooled缩写，代表水冷冷却架构，激光器本体需要外接配套循环水冷机组完成热交换处理，设备内部热负载由水冷回路带走，有效控制电极、放电腔体工作温度，降低长时间工作带来的温度漂移。

同系列AC型号为风冷散热，依靠设备自带风扇散热，适合间歇工作；LC水冷版本面向高占空比持续作业场景，可维持长时间脉冲输出，减少因温升造成脉冲能量偏移。

LC水冷型准分子激光器关键参数

LC水冷版本产品特点

水冷散热架构可以高效导出放电腔体工作热量，抑制设备温升，在持续高频脉冲输出条件下，维持脉冲能量稳定性，减少工艺数据波动。

适配不间断的工业生产以及长时间不间断的实验测试，相比风冷机型，LC水冷型号更适合7×24小时类连续作业工况。

保留MLase准分子激光器原有光束品质，平顶均匀光斑输出，热影响区域小，满足各类紫外冷加工工艺需求。

标准化机械、电气接口，支持OEM系统集成，可接入微加工设备、激光剥蚀系统、光栅刻写设备等整套装置。

设备需要配套外部循环水冷机组使用，需要现场预留水冷安装空间以及水路布置条件。

LC水冷型主要应用场景

工业微加工：薄膜刻蚀、PI膜加工、玻璃陶瓷打孔，大批量连续加工生产。

科研设备：LA‑ICP‑MS激光剥蚀、PLD脉冲激光沉积，长时间连续采样实验。

光电子加工：光纤布拉格光栅FBG批量刻写，微光学器件批量制备。

半导体研发：基板微结构加工、薄膜器件试制等持续运行工艺。

LC与AC风冷版本选型区分

LC（Liquid‑Cooled水冷）：适合连续高占空比、长时间开机，工业批量加工场景，需外接冷水机。

AC（Air‑Cooled风冷）：设备自带风扇散热，无需外接水冷设备，适合间歇运行、实验室研发试制场景。